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试验室集中供气系统的特点

1、特点：试验室要求使用载气流量恒定、气体纯度高，为试验室选用的分析设备提供量值和压力稳定的气体。

2、经济性：建一个集中的气瓶间可以节省有限的试验室空间，更换气瓶时不需要切断气体，保证气体的连续供应。使用者只需管理较少的气瓶，支付较少的气瓶租金，因为使用同一气体的所有使用点来自于同一个气源。气体管路控制系统作用主要由气源切换系统、管道系统、调压系统、用气点、监控及报警系统组成。此种供应方式***终会减少运输费用，减少退还给气体公司的空瓶中的余气量，以及良好的气瓶管理。

3、使用率：集中管道供应系统可以将气体出口放置在使用点处，这样的话可以更合理的设计工作场所。

4、安全性：保证其储存和使用的安全性。保障分析测试人员在实验中免受有毒有害气体的侵害。

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试验室供气现状

目前我们可以用采用高压气瓶、液体杜瓦瓶、集中供气系统完成上述工作。同时，当地消防规范建议甚至要求将主要的气体源如气瓶、杜瓦瓶和液体储槽放置在工作区外的指1定区域，然后将气体通过管道系统输送至试验室内。

但是考虑安全和效率因素，不考虑经济性因素，集中供气系统是比较优1秀的方式。并成为当今试验室设备使用高纯气体的可靠连续的供应源，气体通过管道系统输送至试验室内，并可通过安装在工作台上的使用点二级减压器方便地调节压力和流量。

国内比较老的试验室在使用气体的时候大多是将气瓶放在用气点的旁边，然后在气瓶出口处安装一个减压器，然后直接通过紫铜管或四氟软管连接到仪器上，如果一个试验室里有多个使用设备时，就会有很多气瓶，同时有很多杂乱的管路，同时这些气体不乏有毒气体、强腐蚀气体，以及气瓶出口高压等因素，使得这种方式在现实使用过程中是充满危险性的。高纯气体的输送管路系统随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0。

试验室集中供气系统的优点

针对过去使用中存在的问题，现代试验室对载气的使用环境进行了改革，即 “集中供气系统”，即将使用气体（以下简称载气）集中贮存，然后通过压差的原理将气体经过金属或其他材质管路送至用气点。其优点主要有以下几点：

1、首先解决气瓶的放置问题。实验室的气体的排放是非常重要的，如果说实验室气体管道设计不合理，工作人员就容易出事，甚至严重的就会有生命危险。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间，如果与试验室在同一大楼内，则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间，这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离，即使有害气体有泄漏，也不会发生直接伤害。

2、其次气体混合的问题。将所有载气气瓶根据气体性质分别集中在一个气瓶间中与助燃气体分开存贮。

3、再次是解决气瓶压力的问题。每种气体可以将多瓶气体并联然后通过一个出口统一减压后运送气体至使用点。⑥各种可燃气体管道系统均应设置能引入氮气等惰性气体的接口及相应的检测口，以便在可燃气体供应系统使用前后或检修动火前后对其系统进行吹扫置换，但是惰性气体吹扫接口在正常运行中不能与气体钢瓶或惰性气体管道相通，以避免影响气体质量。因为气瓶间是相对独立的，整个气路系统压力***1大的地方也是气瓶出口处，因此这种方式将气瓶压力可能发生的危险缩小至气瓶间内，可对人体及仪器的伤害可降到***1低。