高纯供气哪里有

高纯气体的输送管路系统

随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。

本信息由艾明坷为您提供，如果您想了解更多产品信息，您可拨打图片上的电话咨询，艾明坷竭诚为您服务！

电子特气系统的维护

由于特气系统是一种具有高风险的供应系统，因此在生产线现场的维护需要、有经验的技术员完成。特气系统的维护主要包含气体柜维护和管路维护。

（1）特气柜又分为全自动特气柜与半自动特气柜，每种气柜的维护方法有一定的区别。全自动气柜维护自动化程度较高，并且。在维护前关闭钢瓶阀门，设置换瓶吹扫，程序自动进行抽气，置换等动作，根据气体性质的不同，一般至少吹扫60次以上，负压保压30分钟以上，确保气柜各管路与阀门吹扫干净。

（2）管路的维护，由于不同的气体性质不一样，对管路维护的方法也不相同，对腐蚀性气体的管道需要多次用高纯氮气吹扫（N2purge），一般至少反复30次，对于有吸附性的液态源气体，由于管路容易堵塞，需要多次的反复的抽真空，抽完后关闭阀门，1小时后会出现压力表回表的现象，会造成管道泄漏的误导，遇到此情况打开真空器发生器继续抽，直到没有吸附气体释放为止。

以上两种系统维护后都必须做正压与负压的保压测试，一般正压保压压力为使用压力的1.2倍，高纯供气哪里有，负压保压为-12PSI，保压时间至少120分钟以上，由于压力传感器（PT）受温度的影响，一般有2PSI的正负波动。

想了解更多产品信息，您可拨打图片上的电话咨询！

高纯供气系统

持续和及时。集中供气系统采用手动、半自动或全自动切换系统，平时每个供气源为一开一备状态，可根据仪器工作条件对局部或整体气体压力、流量进行调节，能保证仪器用气的流量和压力的稳定性、持续性，也能保证量值传递不发生变化。

扩展性灵活。集中供气管道上可预留接气点以及能够扩展的点，并安装控制开关或堵头，方便扩展。所有用气的仪器前端均装控制阀。因此，可以在不影响其他仪器正常工作的情况下，扩展新的用气端点。